RAMAN-SPECTROSCOPY OF REACTIVE ION ETCHING INDUCED SUBSURFACE DAMAGE

被引：39

作者：

TSANG, JC

OEHRLEIN, GS

HALLER, I

CUSTER, JS

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.95549

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：589 / 591

页数：3

共 6 条

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