HIGH-PRESSURE THERMAL OXIDE INP INTERFACE

被引:15
作者
WILMSEN, CW [1 ]
GEIB, KM [1 ]
GANN, R [1 ]
COSTELLO, J [1 ]
HRYCKOWIAN, G [1 ]
ZETO, RJ [1 ]
机构
[1] USA,ELECTR TECHNOL & DEVICES LAB,FT MONMOUTH,NJ 07703
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1985年 / 3卷 / 04期
关键词
D O I
10.1116/1.583062
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页码:1103 / 1106
页数:4
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