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THE EFFECT OF GAS PURITY ON THE REFLECTANCE AND RESISTIVITY OF MAGNETRON SPUTTERED ALUMINUM AND ITS ALLOYS
被引:4
作者
:
NYAIESH, AR
论文数:
0
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0
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0
NYAIESH, AR
HOLLAND, L
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0
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HOLLAND, L
机构
:
来源
:
VACUUM
|
1982年
/ 32卷
/ 12期
关键词
:
D O I
:
10.1016/0042-207X(82)93845-3
中图分类号
:
T [工业技术];
学科分类号
:
08 ;
摘要
:
引用
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页码:735 / 736
页数:2
相关论文
共 3 条
[1]
TUNNEL MAGNETRON CHARACTERISTICS AND DISCHARGE DIAGNOSTICS
[J].
HOLLAND, L
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0
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0
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0
HOLLAND, L
.
THIN SOLID FILMS,
1981,
86
(2-3)
:227
-239
[2]
THE EFFECTS OF GAS-COMPOSITION ON DISCHARGE AND DEPOSITION CHARACTERISTICS WHEN MAGNETRON SPUTTERING ALUMINUM
[J].
NYAIESH, AR
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NYAIESH, AR
;
HOLLAND, L
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HOLLAND, L
.
VACUUM,
1981,
31
(8-9)
:371
-375
[3]
NYAIESH AR, VACUUM
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[1]
TUNNEL MAGNETRON CHARACTERISTICS AND DISCHARGE DIAGNOSTICS
[J].
HOLLAND, L
论文数:
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0
h-index:
0
HOLLAND, L
.
THIN SOLID FILMS,
1981,
86
(2-3)
:227
-239
[2]
THE EFFECTS OF GAS-COMPOSITION ON DISCHARGE AND DEPOSITION CHARACTERISTICS WHEN MAGNETRON SPUTTERING ALUMINUM
[J].
NYAIESH, AR
论文数:
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NYAIESH, AR
;
HOLLAND, L
论文数:
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HOLLAND, L
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VACUUM,
1981,
31
(8-9)
:371
-375
[3]
NYAIESH AR, VACUUM
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