VARIATIONS OF THE SILICON NETWORK OF AMORPHOUS-SILICON STUDIED BY RAMAN-SPECTROSCOPY

被引：13

作者：

HISHIKAWA, Y

WATANABE, K

TSUDA, S

NAKANO, S

OHNISHI, M

KUWANO, Y

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0022-3093(87)90093-7

中图分类号：

TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：399 / 402

页数：4

共 6 条

HISHIKAWA, Y ;

WATANABE, K ;

TSUDA, S ;

OHNISHI, M ;

KUWANO, Y .

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