SIMULATION AND MEASUREMENT OF C/V DOPING PROFILES IN MULTILAYER STRUCTURES

被引:52
作者
WHITEAWAY, JEA
机构
来源
IEE PROCEEDINGS-I COMMUNICATIONS SPEECH AND VISION | 1983年 / 130卷 / 04期
关键词
D O I
10.1049/ip-i-1.1983.0030
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
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页码:165 / 170
页数:6
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