TIME DEPENDENCY OF AVALANCHE PROCESS IN SEMICONDUCTORS

被引：8

作者：

WALMA, AA ^{[1
]}

HACKAM, R ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV SHEFFIELD,DEPT ELECT & ELECTR ENGN,SHEFFIELD S1 3JD,YORKSHIRE,ENGLAND

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0038-1101(75)90027-1

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：511 / 517

页数：7

共 10 条

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