SINGLE-STEP LIFT-OFF PROCESS USING CHLOROBENZENE SOAK ON AZ4000 RESISTS

被引：9

作者：

FATHIMULLA, A

机构：

[1] Allied Bendix Aerospace Technology, Cent, Columbia, MD, USA, Allied Bendix Aerospace Technology Cent, Columbia, MD, USA

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1985年 / 3卷 / 01期

关键词：

AZ4000 RESISTS - CHLOROBENZENE SOAK - SINGLE-STEP LIFT-OFF PROCESS;

D O I：

10.1116/1.583240

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：25 / 27

页数：3

共 6 条

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