DEFECT ENGINEERING AS AN IMPORTANT FACTOR IN DEVELOPING VLSI SUBSTRATES

被引：20

作者：

RICHTER, H

MAI, M

KIRSCHT, FG

GAWORZEWSKI, P

机构：

来源：

PHYSICA B & C | 1983年 / 116卷 / 1-3期

关键词：

D O I：

10.1016/0378-4363(83)90243-7

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

页码：162 / 167

页数：6

共 7 条

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