PHOTOEMISSION-STUDY OF NITRIC-OXIDE ADSORPTION ON GALLIUM ARSENIDE(110)

被引:14
作者
BERMUDEZ, VM [1 ]
WILLIAMS, RT [1 ]
LONG, JP [1 ]
RIFE, JC [1 ]
WILSON, RM [1 ]
TUTTLE, AE [1 ]
WILLIAMS, GP [1 ]
机构
[1] WAKE FOREST UNIV,WINSTON SALEM,NC 27109
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1987年 / 5卷 / 04期
关键词
D O I
10.1116/1.574668
中图分类号
TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
引用
收藏
页码:541 / 545
页数:5
相关论文
共 51 条
[51]   THERMAL NITRIDATION OF SI(111) BY NITRIC-OXIDE [J].
WIGGINS, MD ;
BAIRD, RJ ;
WYNBLATT, P .
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1981, 18 (03) :965-970