HYDROSTATIC FLOAT POLISHING FOR WATER PREPARATION

被引：3

作者：

HAMAGUCHI, T

KIMURA, M

EGAMI, K

ENDO, N

机构：

[1] NEC CORP,FUNDAMENTAL RES LABS,MIYAMAE KU,KAWASAKI 213,JAPAN

[2] NEC CORP,MICROELECTR RES LABS,MIYAMAE KU,KAWASAKI 213,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.1137641

中图分类号：

TH7 [仪器、仪表];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

引用

页码：1867 / 1868

页数：2

共 5 条

EGAMI, K ;

KIMURA, M ;

HAMAGUCHI, T .

[2] HYDROPLANE POLISHING OF SEMICONDUCTOR CRYSTALS [J].

GORMLEY, JV ;

MANFRA, MJ ;

CALAWA, AR .

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