REFLOW OF PHOSPHOSILICATE GLASS BY RAPID THERMAL ANNEALING

被引：8

作者：

ALVI, NS

KWONG, DL

机构：

[1] GM, Kokomo, IN, USA, GM, Kokomo, IN, USA

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2108492

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：2626 / 2631

页数：6

共 27 条

ARMSTRONG, WE ;

TOLLIVER, DL .

CUNNINGHAM, JA ;

FULLER, CR ;

HAYWOOD, CT .

[3]

GAT A, 1982, INTRO HEATPULSE PROC, P1

[4]

GHOSHTAGORE RN, 1975, THIN SOLID FILMS, V25, P501, DOI 10.1016/0040-6090(75)90068-1

[5]

HARA H, 1984, JPN J APPL PHYS, V232, pLH52

[6]

HASHIMOTO N, 1983, JPN J APPL PHYS S, V16, P73

[7]

JEUCH P, 1981, NOV MAT RES SOC C BO

[8] RAPID ANNEALING USING HALOGEN LAMPS [J].

KATO, J ;

IWAMATSU, S .

[9]

KERN W, 1982, RCA REV, V43, P423

[10]

KERN W, 1985, SOLID STATE TECHNOL, V28, P171