HIGH-CURRENT ION IMPLANTER USING A MICROWAVE ION-SOURCE

被引：20

作者：

SAKUDO, N

TOKIGUCHI, K

KOIKE, H

KANOMATA, I

机构：

来源：

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS | 1983年 / 54卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1063/1.1137453

中图分类号：

TH7 [仪器、仪表];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

引用

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页码：681 / 684

页数：4

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共 8 条

[1]

Cornu A., 1966, COMPILATION MASS SPE

[2] ROTATING SCAN FOR ION-IMPLANTATION [J].

ROBERTSON, GI .

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1975, 122 (06) :796-800

[3] MICROWAVE ION-SOURCE [J].

SAKUDO, N ;

TOKIGUCHI, K ;

KOIKE, H ;

KANOMATA, I .

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 1977, 48 (07) :762-766

[4]

SAKUDO N, 1978, REV SCI INSTRUM, V49, P980

[5]

SAKUDO N, 1978, 8TH P S EL ION BEAM, P543

[6]

SAKUDO N, 1980, 2ND INT C LOW EN ION

[7]

TAMURA M, 1978, INT C ION BEAM MODIF

[8]

YAGI K, 1979, 11TH C SOL STAT DEV