GROWTH OF CRYSTALLINE ZIRCONIUM DIOXIDE FILMS ON SILICON

被引：54

作者：

MORITA, M ^{[1
]}

FUKUMOTO, H ^{[1
]}

IMURA, T ^{[1
]}

OSAKA, Y ^{[1
]}

ICHIHARA, M ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV TOKYO,INST SOLID STATE PHYS,TOKYO 106,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.335912

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：2407 / 2409

页数：3

共 3 条

GOLECKI, I ;

MANASEVIT, HM ;

MOUDY, LA ;

YANG, JJ ;

MEE, JE .

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YAMADA, K ;

SHIMIZU, K ;

TARUI, Y .

[3] PREPARATION AND PROPERTIES OF PYROLYTIC ZIRCONIUM DIOXIDE FILMS [J].

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CAFFREY, RE .