AUGER-ELECTRON AND X-RAY PHOTOELECTRON-SPECTROSCOPY OF SPUTTER DEPOSITED ALUMINUM NITRIDE

被引:81
作者
KOVACICH, JA
KASPERKIEWICZ, J
LICHTMAN, D
AITA, CR
机构
[1] UNIV WISCONSIN,SURFACE STUDIES LAB,MILWAUKEE,WI 53201
[2] UNIV WISCONSIN,DEPT MAT,MILWAUKEE,WI 53201
关键词
D O I
10.1063/1.333335
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:2935 / 2939
页数:5
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