DAMAGE TO RESIST STRUCTURES DURING SCANNING ELECTRON-MICROSCOPE INSPECTION

被引：8

作者：

ERASMUS, SJ

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1987年 / 5卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.583915

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：409 / 413

页数：5

共 10 条

BOWDEN, MJ ;

THOMPSON, LF .

[2]

CARSLAW HS, 1959, CONDUCTION HEAT SOLI, P216

[3]

Charlesby A., 1960, ATOMIC RAD POLYM

[4]

Dole M., 1972, RAD CHEM MACROMOLECU

[5]

DOLE M, 1972, RAD CHEM MACROMOLECU, V2

KOTANI, H ;

KAWABE, M ;

NAMBA, S .

[7]

Rose A., 1948, ADV ELECTRON EL P, P131, DOI DOI 10.1016/S0065-2539(08)61102-6

SAMOTO, N ;

SHIMIZU, R ;

HASHIMOTO, H .

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 1985, 24 (04) :482-486

[9]

SHIRAISHI H, 1984, ACS SYM SER, V242, P167

[10]

WELLS OC, 1974, SCANNING ELECTRON MI, P23