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FREQUENCY-EFFECTS IN PLASMA-ETCHING

被引：73
作者：
FLAMM, DL
机构：
来源：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1986年 / 4卷 / 03期
关键词：
D O I：
10.1116/1.573821
中图分类号：
TB3 [工程材料学];
学科分类号：
0805 ; 080502 ;
摘要：
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页码：729 / 738
页数：10
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共 52 条
  • [51] TAGASHIRA H, 1985, 7TH P INT S PLASM CH, V4, P1337
  • [52] COMPARISON OF MICROWAVE AND LOWER FREQUENCY PLASMAS FOR THIN-FILM DEPOSITION AND ETCHING
    WERTHEIMER, MR
    MOISAN, M
    [J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, 1985, 3 (06): : 2643 - 2649
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