FREQUENCY-EFFECTS IN PLASMA-ETCHING

被引:73
作者
FLAMM, DL
机构
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1986年 / 4卷 / 03期
关键词
D O I
10.1116/1.573821
中图分类号
TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
引用
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页码:729 / 738
页数:10
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