INTRODUCTION TO ION AND PLASMA ETCHING

被引:85
作者
SOMEKH, S [1 ]
机构
[1] BELL TEL LABS INC, MURRAY HILL, NJ 07974 USA
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1976年 / 13卷 / 05期
关键词
D O I
10.1116/1.569036
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:1003 / 1007
页数:5
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