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REACTIVE ION ETCHING OF DIAMOND

被引：86
作者：
SANDHU, GS
CHU, WK
机构：
来源：
APPLIED PHYSICS LETTERS | 1989年 / 55卷 / 05期
关键词：
D O I：
10.1063/1.101890
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
引用
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页码：437 / 438
页数：2
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