APPLICATION OF POLYMER BISAZIDE COMPOSITE SYSTEM NEGATIVE RESISTS TO ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY

被引：1

作者：

TANIGAKI, K

SUZUKI, M

OHNISHI, Y

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1985年 / 3卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.582945

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：1594 / 1599

页数：6

共 14 条

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