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ISOELECTRONIC TRAPS DUE TO NITROGEN IN GALLIUM PHOSPHIDE
被引:271
作者
:
THOMAS, DG
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THOMAS, DG
HOPFIELD, JJ
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HOPFIELD, JJ
FROSCH, CJ
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FROSCH, CJ
机构
:
来源
:
PHYSICAL REVIEW LETTERS
|
1965年
/ 15卷
/ 22期
关键词
:
D O I
:
10.1103/PhysRevLett.15.857
中图分类号
:
O4 [物理学];
学科分类号
:
0702 ;
摘要
:
引用
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页码:857 / &
相关论文
共 4 条
[1]
THE EPITAXIAL GROWTH OF GAP BY A GA2O VAPOR TRANSPORT MECHANISM
FROSCH, CJ
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0
FROSCH, CJ
[J].
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY,
1964,
111
(02)
: 180
-
184
[2]
GROSS EF, 1964, DOKL AKAD NAUK SSSR+, V154, P64
[3]
GROSS EF, 1964, SOVIET PHYSICSDOKLAD, V9, P38
[4]
BOUND EXCITONS IN GAP
THOMAS, DG
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THOMAS, DG
HOPFIELD, JJ
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HOPFIELD, JJ
GERSHENZON, M
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GERSHENZON, M
[J].
PHYSICAL REVIEW,
1963,
131
(06):
: 2397
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共 4 条
[1]
THE EPITAXIAL GROWTH OF GAP BY A GA2O VAPOR TRANSPORT MECHANISM
FROSCH, CJ
论文数:
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FROSCH, CJ
[J].
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY,
1964,
111
(02)
: 180
-
184
[2]
GROSS EF, 1964, DOKL AKAD NAUK SSSR+, V154, P64
[3]
GROSS EF, 1964, SOVIET PHYSICSDOKLAD, V9, P38
[4]
BOUND EXCITONS IN GAP
THOMAS, DG
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THOMAS, DG
HOPFIELD, JJ
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HOPFIELD, JJ
GERSHENZON, M
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GERSHENZON, M
[J].
PHYSICAL REVIEW,
1963,
131
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