REPAIR OF X-RAY-LITHOGRAPHY MASKS USING UV-LASER PHOTODEPOSITION

被引:12
作者
RANDALL, JN
EHRLICH, DJ
TSAO, JY
机构
[1] MIT, Lincoln Lab, Lexington, MA, USA, MIT, Lincoln Lab, Lexington, MA, USA
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1985年 / 3卷 / 01期
关键词
D O I
10.1116/1.583241
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
8
引用
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页码:262 / 264
页数:3
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