DEFECTS IN EPITAXIAL MULTILAYERS .3. PREPARATION OF ALMOST PERFECT MULTILAYERS

被引:575
作者
MATTHEWS, JW [1 ]
BLAKESLEE, AE [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HEIGHTS,NY 10598
关键词
D O I
10.1016/0022-0248(76)90041-5
中图分类号
O7 [晶体学];
学科分类号
0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;
摘要
引用
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页数:9
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