INVESTIGATION OF GERMANIUM FILMS AND GE-SI INTERFACE STRUCTURE BY TRANSMISSION ELECTRON-MICROSCOPY

被引:5
作者
ASEEV, AL
VASIN, OI
STENIN, SI
SOLDATENKO, NN
TKHORIK, YA
机构
[1] ACAD SCI USSR,SEMICOND PHYS INST,NOVOSIBIRSK,USSR
[2] ACAD SCI UKSSR,SEMICOND INST,KIEV,UKSSR
关键词
D O I
10.1016/0040-6090(75)90306-5
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
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页数:10
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