TIN FORMED BY EVAPORATION AS A DIFFUSION BARRIER BETWEEN AL AND SI

被引：177

作者：

TING, CY

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1982年 / 21卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.571700

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：14 / 18

页数：5

共 18 条

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