PLASMA BEAM STUDIES OF SI AND AL ETCHING MECHANISMS

被引：53

作者：

SMITH, DL

SAVIANO, PG

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1982年 / 21卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.571823

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：768 / 773

页数：6

共 24 条

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