LATTICE MISFIT AND ITS COMPENSATION IN SI-EPITAXIAL LAYER BY DOPING WITH GERMANIUM AND CARBON

被引:21
作者
LEE, YT [1 ]
MIYAMOTO, N [1 ]
NISHIZAWA, J [1 ]
机构
[1] TOHOKU UNIV,RES INST ELECT COMMUN,SENDAI,JAPAN
关键词
D O I
10.1149/1.2134254
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
引用
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页码:530 / 535
页数:6
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