INPLANE DISPLACEMENT AND STRAIN-MEASUREMENT BY SPECKLE INTERFEROMETRY AND MOIRE DERIVATION

被引：13

作者：

SPAJER, M ^{[1
]}

RASTOGI, PK ^{[1
]}

MONNERET, J ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV BESANCON,FAC SCI,PHYS GEN & OPT LAB,F-25030 BESANCON,FRANCE

来源：

APPLIED OPTICS | 1981年 / 20卷 / 19期

关键词：

D O I：

10.1364/AO.20.003392

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

页码：3392 / 3402

页数：11

共 25 条

[1] DISPLACEMENT MEASUREMENT FROM DOUBLE-EXPOSURE LASER PHOTOGRAPHS [J].

ARCHBOLD, E ;

ENNOS, AE .

OPTICA ACTA, 1972, 19 (04) :253-&

[2]

ARCHBOLD E, 1977, P SOC PHOTO-OPT INST, V136, P258

[3]

Beckmann P., 1963, SCATTERING ELECTROMA

[4]

BERANEK WJ, 1979, MAY SESA SPRING M SA

[5]

Boone P. M., 1970, Optics Technology, V2, P94, DOI 10.1016/0374-3926(70)90009-8

[6]

BUTTERS JN, 1973, J SCI INSTRUM, V5, P1107

[7]

BUTTERS JN, 1978, SPECKLE METROLOGY, pCH6

CHARMET, JC ;

MONTEL, F .

REVUE DE PHYSIQUE APPLIQUEE, 1977, 12 (04) :603-610

[9]

CHARMET JC, 1977, THESIS U P M CURIE P

EBBENI, J ;

CHARMET, JC .