DRY, LASER-ASSISTED RAPID HBR ETCHING OF GAAS

被引:42
作者
BREWER, PD [1 ]
MCCLURE, D [1 ]
OSGOOD, RM [1 ]
机构
[1] COLUMBIA UNIV,COLUMBIA RADIAT LAB,NEW YORK,NY 10027
关键词
D O I
10.1063/1.96202
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
收藏
页码:310 / 312
页数:3
相关论文
共 15 条