LASER CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF COPPER

被引：84

作者：

HOULE, FA

JONES, CR

BAUM, T

PICO, C

KOVAC, CA

机构：

来源：

APPLIED PHYSICS LETTERS | 1985年 / 46卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1063/1.95685

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：204 / 206

页数：3

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