MONITORING AND CONTROL OF REAL POWER IN RF PLASMA PROCESSING

被引：16

作者：

ZAU, GCH ^{[1
]}

BUTTERBAUGH, JW ^{[1
]}

RUMMEL, P ^{[1
]}

SAWIN, HH ^{[1
]}

机构：

[1] COMDEL CORP,BEVERLY,MA 01915

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2085698

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

[No abstract available]

引用

页码：872 / 873

页数：2

共 3 条

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