EPITAXIAL DEPOSITION OF SILICON USING ULTRA-THIN ALLOY ZONE CRYSTALLISATION

被引：6

作者：

FILBY, JD

NIELSEN, S

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0026-2714(66)90004-7

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：11 / &

共 15 条

FILBY, JD ;

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