STRUCTURE AND DENSITY OF SPUTTERED MOS2-FILMS

被引:42
作者
BUCK, V
机构
[1] DFVLR, Stuttgart, West Ger, DFVLR, Stuttgart, West Ger
关键词
D O I
10.1016/0042-207X(86)90277-0
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
12
引用
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页数:6
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