MODEL OF TEMPERATURE-DEPENDENT DEFECT INTERACTION AND AMORPHIZATION IN CRYSTALLINE SILICON DURING ION IRRADIATION

被引:135
作者
HECKING, N
HEIDEMANN, KF
KAAT, ET
机构
关键词
D O I
10.1016/0168-583X(86)90407-6
中图分类号
TH7 [仪器、仪表];
学科分类号
0804 ; 080401 ; 081102 ;
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页数:5
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