STRUCTURE AND PROPERTY RELATIONSHIPS OF NI-20CR PRODUCED BY HIGH-RATE PHYSICAL VAPOR-DEPOSITION

被引:16
作者
AGARWAL, N [1 ]
KANE, N [1 ]
BUNSHAH, RF [1 ]
机构
[1] UNIV CALIF,MAT DEPT,6532 BOELTER HALL,LOS ANGELES,CA 90024
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1975年 / 12卷 / 02期
关键词
D O I
10.1116/1.568634
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:619 / 623
页数:5
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