MEV HE BACKSCATTERING ANALYSIS OF ION-IMPLANTED SI - DRIVE-IN DIFFUSION AND EPITAXIAL REGROWTH

被引：6

作者：

MAYER, JW

CSEPREGI, L

GYULAI, J

NAGY, T

MEZEY, G

REVESZ, P

KOTAI, E

机构：

[1] CENT RES INST PHYS,BUDAPEST,HUNGARY

[2] CALTECH,PASADENA,CA 91109

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(76)90318-7

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：303 / 306

页数：4

共 6 条

[1]

CHU WK, 1973, THIN SOLID FILMS, V7, P1

[2]

Crowder Billy L., 1973, ION IMPLANTATION SEM

CSEPREGI, L ;

MAYER, JW ;

SIGMON, TW .

[4]

GYULAI J, 1974, VIDE, V174, P417

MULLER, H ;

GYULAI, J ;

CHU, WK ;

MAYER, JW ;

SIGMON, TW .

[6]

PICRAUX ST, 1974, APPLICATIONS ION BEA