ANOMALOUS GROWTH OF HFAL3 IN THIN-FILMS

被引：24

作者：

LEVER, RF ^{[1
]}

HOWARD, JK ^{[1
]}

CHU, WK ^{[1
]}

SMITH, PJ ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,DIV SYST PROD,HOPEWELL JUNCTION,NY 12533

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1977年 / 14卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.569110

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：158 / 161

页数：4

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共 5 条

[1] KINETICS OF COMPOUND FORMATION IN THIN-FILM COUPLES OF AL AND TRANSITION-METALS
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