EFFECTS OF LIGHT-ABSORPTION IN THE RESIST LAYER IN OPTICAL LITHOGRAPHY

被引：1

作者：

TANAKA, T ^{[1
]}

FUKUDA, H ^{[1
]}

HASEGAWA, N ^{[1
]}

HASHIMOTO, M ^{[1
]}

OKAZAKI, S ^{[1
]}

KOIBUCHI, S ^{[1
]}

机构：

[1] HITACHI CHEM CO,YAMAZAKI WORKS,HITACHI,IBARAKI 317,JAPAN

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1989年 / 7卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.584713

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：188 / 190

页数：3

共 6 条

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