RF SPUTTERING OF GRAPHITE IN ARGON-OXYGEN MIXTURES

被引：10

作者：

HOLLAND, L ^{[1
]}

OJHA, SM ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV SUSSEX,SCH MATH & PHYS SCI,PLASMA MAT PROC LAB,BRIGHTON,SUSSEX,ENGLAND

来源：

VACUUM | 1976年 / 26卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1016/S0042-207X(76)80482-4

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

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页码：233 / 235

页数：3

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共 2 条

[1] CHEMICAL SPUTTERING OF GRAPHITE IN AN OXYGEN PLASMA
HOLLAND, L
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[2] PLASMA CLEANING OF METAL-SURFACES
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