THERMAL-STABILITY OF TISI2 ON MONOCRYSTALLINE AND POLYCRYSTALLINE SILICON

被引：45

作者：

WONG, CY

WANG, LK

MCFARLAND, PA

TING, CY

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.337688

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：243 / 246

页数：4

共 9 条

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