FABRICATION OF MOSAIC COLOR FILTERS BY DRY-ETCHING DIELECTRIC STACKS

被引：9

作者：

CURTIS, BJ

GALE, MT

LEHMANN, HW

BRUNNER, H

SCHUETZ, H

WIDMER, R

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1986年 / 4卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.573457

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：70 / 74

页数：5

共 6 条

[1] SINGLE-CHIP COLOR CAMERA USING A FRAME-TRANSFER CCD [J].

ASCHWANDEN, F ;

GALE, MT ;

KIEFFER, P ;

KNOP, K .

[2] CONTROL OF RELATIVE ETCH RATES OF SIO2 AND SI IN PLASMA ETCHING [J].

HEINECKE, RAH .

KNOP, K ;

LEHMANN, HW ;

WIDMER, R .

[4]

LEHMANN HW, 1984, VACUUM, V34, P678

[5]

SAVOYE ED, 1984, P SOC PHOTO-OPT INST, V501, P32, DOI 10.1117/12.944642

SHIMOMOTO, Y ;

IMAMURA, Y ;

SASANO, A ;

MARUYAMA, E .