ORGANOMETALLIC MATERIALS IN LITHOGRAPHY - A REVIEW

被引：15

作者：

HATZAKIS, M

SHAW, J

BABICH, E

PARASZCZAK, J

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1988年 / 6卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.584086

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：2224 / 2228

页数：5

共 23 条

[1]

BABICH E, 1986, MICROELECTRON ENG, V3, P299

[2]

DUBOIS JC, 1968, 5TH INT C EL ION BEA, P112

[3]

GOZDZ AS, 1986, SPIE P, V631

[4]

HARTNEY MA, 1985, P TECHNICAL C PHOTOP, P211

[5]

HATZAKIS M, 1981, SOLID STATE TECHNOL, V24, P74

[6]

HATZAKIS M, 1981, P INT C MICROLITHOGR, P386

[7]

HOFER DC, 1984, P SOC PHOTO-OPT INST, V469, P16, DOI 10.1117/12.941772

[8]

KAWAZU R, 1986, 29TH P INT S EL ION, P409

[9] PRACTICAL ASPECTS OF MICROFABRICATION IN THE 100 NM REGIME [J].

KERN, DP ;

HOUZEGO, PJ ;

COANE, PJ ;

CHANG, THP .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1983, 1 (04) :1096-1100

[10] POLYMERIC ELECTRON BEAM RESISTS [J].

KU, HY ;

SCALA, LC .