PREPARATION OF HIGHLY PHOTOSENSITIVE HYDROGENATED AMORPHOUS SI-GE ALLOYS USING A TRIODE PLASMA REACTOR

被引:39
作者
MATSUDA, A
YAGII, K
KOYAMA, M
TOYAMA, M
IMANISHI, Y
IKUCHI, N
TANKA, K
机构
关键词
D O I
10.1063/1.96379
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:1061 / 1063
页数:3
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