MEASURING SMALL-AREA SI-SIO-2 INTERFACE STRESS WITH SEM

被引：13

作者：

CONRU, HW ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,DIV SYST PROD,ESSEX JUNCTION,VT 05452

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1976年 / 47卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1063/1.322850

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：2079 / 2081

页数：3

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共 2 条

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