INVESTIGATION OF THE SURFACE PHOTOCHEMICAL BASIS FOR METAL-FILM NUCLEATION IN LASER CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引：43

作者：

HIGASHI, GS

ROTHBERG, LJ

机构：

来源：

APPLIED PHYSICS LETTERS | 1985年 / 47卷 / 12期

关键词：

D O I：

10.1063/1.96307

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：1288 / 1290

页数：3

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共 11 条

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