STRESS IN POLYCRYSTALLINE AND AMORPHOUS-SILICON THIN-FILMS

被引：75

作者：

HOWE, RT ^{[1
]}

MULLER, RS ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV CALIF BERKELEY,ELECTR RES LAB,BERKELEY,CA 94720

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.332628

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：4674 / 4675

页数：2

共 8 条

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