A COMPARISON OF IONIZING-RADIATION AND HOT-ELECTRON EFFECTS IN MOS STRUCTURES

被引:12
作者
MIKAWA, RE
LENAHAN, PM
机构
关键词
D O I
10.1109/TNS.1984.4333553
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
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页码:1573 / 1575
页数:3
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