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DIFFUSION MASKING OF SILICON NITRIDE AND SILICON OXYNITRIDE FILMS ON SI
被引:25
作者
:
HEUMANN, FK
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0
HEUMANN, FK
BROWN, DM
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BROWN, DM
METS, E
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METS, E
机构
:
来源
:
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY
|
1968年
/ 115卷
/ 01期
关键词
:
D O I
:
10.1149/1.2411034
中图分类号
:
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
:
081704 ;
摘要
:
引用
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页码:99 / &
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BROWN DJ, TO BE PUBLISHED
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PREPARATION AND PROPERTIES OF AMORPHOUS SILICON NITRIDE FILMS
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GRUBER, GA
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1967,
114
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1966,
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PROPERTIES OF AMORPHOUS SILICON NITRIDE FILMS
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JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY,
1966,
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THOMAS RC, 1967, MAY DALL M SOC
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BROWN DJ, TO BE PUBLISHED
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PREPARATION AND PROPERTIES OF AMORPHOUS SILICON NITRIDE FILMS
CHU, TL
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[J].
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY,
1967,
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1966,
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