DIFFUSION MASKING OF SILICON NITRIDE AND SILICON OXYNITRIDE FILMS ON SI

被引：25

作者：

HEUMANN, FK

BROWN, DM

METS, E

机构：

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1968年 / 115卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2411034

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：99 / &

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