CHROMIUM CHROMATE AS AN INERT MARKER IN COPPER OXIDATION

被引：3

作者：

DAY, RJ ^{[1
]}

FRISCH, MA ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598

来源：

SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS | 1986年 / 8卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1002/sia.740080107

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

11

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页数：4

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WITTMAACK, K .

VACUUM, 1984, 34 (1-2) :119-137