SUBTHRESHOLD BEHAVIOR OF THIN-FILM LPCVD POLYSILICON MOSFETS

被引:23
作者
ORTIZCONDE, A [1 ]
FOSSUM, JG [1 ]
机构
[1] UNIV FLORIDA,DEPT ELECT ENGN,GAINESVILLE,FL 32611
关键词
D O I
10.1109/T-ED.1986.22708
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页码:1563 / 1571
页数:9
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